תיאור מוצרים
4-Acetoxystyrene (AST) הוא מונומר סטירן עם קבוצת הגנה על אצטיל. יש לו יציבות אחסון טובה יותר מאשר 4-hydroxystyrene. ניתן לבצע הידרוליזה לאחר פילמור לייצור פוליהידרוקסיסטירן (PHS). עם זיהומי מתכת נמוכים, זהו חומר הגלם העיקרי של שרף בסיס עבור פוטו-רזיסט 248nm KrF.
מפרט מוצרים
| שם המוצר | pACS/AST/4-Acetoxystyrene |
| CAS מס | 2628-16-2 |
| פריט מס | M212 |
| הוֹפָעָה | נוזל שקוף חסר צבע |
| טוֹהַר | 99% |
| צְפִיפוּת | 1.06 גרם/מ"ל ב-25 מעלות |
| מקדם השבירה | 1.538 |
| נקודת רתיחה | 260 מעלות |
| נקודת התכה | 7-8 מעלות |
| חֲבִילָה | 100 גרם/1 ק"ג/10 ק"ג וכו'. |
| מְסִירָה | 2-3 ימים |
| אִחסוּן | 2-8 מעלות |
| MSDS/COA/TDS | חבר אותנו |
יישום מוצרים
4-Acetoxystyrene (pACS/AST) משמש בעיקר ב-KrF photoresist עבור מיקרו-אלקטרוניקה מוליכים למחצה, שרפים פולימרים פונקציונליים ותעשיות סינתזה אורגנית פרמצבטית.
שאלות נפוצות
ש: איזה תפקיד ממלא pACS בייצור פוטו-רזיסט KrF?
ת: לאחר פילמור והידרוליזה, pACS יוצר שרף בסיס PHS, שהוא השרף הראשי יוצר הסרט של פוטו-רזיסט חיובי 248nm KrF ואחד מחומרי הגלם המרכזיים לפוטו-רזיסט.
ש: מדוע pACS דורש קירור ב-2~8 מעלות?
ת: pACS מכיל קבוצות ויניל ונוטה לפילמור עצמי בטמפרטורת החדר. קירור בטמפרטורה נמוכה יחד עם מעכב TBC יכול ביעילות לעכב פילמור ולמנוע הידרוליזה מוקדמת של קבוצות הגנה על אצטיל.
ש: אילו יתרונות ניסוח יכול להביא מונומר pACS ל-KrF photoresist?
ת: pACS כולל טוהר גבוה וזיהומי מתכת נמוכים. לשרף PHS הפולימר יש חלוקת משקל מולקולרית צרה. הפוטורסיסט KrF המתקבל מספק רזולוציית הדמיה גבוהה וחספוס קצה קו נמוך, מתאים לייצור מעגלים עדינים של פרוסות סיליקון.
ש: אילו תרחישים מתאימים לציפויים רגישים לאור העשויים מ-pACS?
ת: הציפוי בעל עמידות בחום והוא יכול לשמש כציפוי מגן לרכיבים אלקטרוניים כדי לעמוד בדרישות של עמידות בטמפרטורה גבוהה והגנה על בידוד.
תגיות פופולריות: cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoxystyrene, סין cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoxystyrene יצרנים, ספקים
![CAS NO:131538-00-6 Polythiol 504/1-Propanethiol,2,3-bis[(2-mercaptoethyl)thio]-](/uploads/45180/small/cas-no-131538-00-6-polythiol-504-17e586.png?size=170x0)
